＜プレスリリース＞

2020年9月9日

名古屋大学

理化学研究所

グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社

名古屋大学未来材料・システム研究所の長田 圭一（当時大学院生）、宇治原 徹教授、理化学研究所革新知能統合研究センターの沓掛 健太朗研究員およびグローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の共同研究グループは、逐次最適化のための機械学習手法であるベイズ最適化を、化学気相成長法（CVD法）によるエピタキシャルSi膜の成長プロセス条件の最適化へ応用することにより、成膜品質を維持しながら、成長速度を約2倍に高めることに成功しました。

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